나노종합기술원 '12인치 반도체 20나노 미세패턴 공정기술' 개발

추가 장비 도입 없이 이룬 성과… 소부장 기업 지원 역량 강화

나노종합기술원 홈페이지 이미지 캡처

나노종합기술원은 12인치 반도체 20나노 미세패턴 공정기술을 개발했다. 국내 기업 요청에 따라 공정별 전문가 테스크포스(TF)를 구성해 6개월 만에 추가 장비 투자 없이 이룬 성과다.

나노종합기술원(이하 기술원)은 반도체 소재·부품·장비 지원역량 강화를 위한 12인치 반도체 20나노 미세패턴 공정기술 개발에 성공했다고 30일 밝혔다.

국내 최초 12인치 반도체 테스트베드 구축을 운영하는 기술원은 지난해 3월부터 국내외 반도체 소부장 기업을 위한 서비스를 제공하고 있다. 기술원은 이 기업들의 요청에 따라 대기업 반도체 양산기술 수준에 부합하는 반도체 소재와 장비 개발을 위한 20나노급 미세패턴 공정을 개발했다.

이 기술은 앞서 구축한 장비를 활용한 공정기술 개발과 집적화를 통한 성과다. 12인치 핵심장비(ArF 이머전 스캐너)의 40나노 노광공정과 식각공정 등을 기반으로 자기 정렬 이중패터닝(SADP) 기술을 개발해 20나노 미세패턴을 구현하는 데 성공했다.



이번 기술 개발은 추가 장비 투자 없이 보유한 12인치 반도체 장비만을 통해 구현한 것으로 200억 원 이상 예산 절감 효과를 낳았다. 기술원은 이 기술을 국내 반도체 소재·장비 기업의 서비스 수요에 활용할 계획이다.

이조원 나노종합기술원장은 "이번 공정기술 개발은 기술의 12인치 반도체 테스트베드 활용도를 획기적으로 높일 수 있는 성과"라며 "향후 국내 반도체 대기업과 소부장 기업과의 연계와 협력을 기반으로 반도체 강국 구현을 위한 공공 테스트베드의 역할과 책임을 더욱 강화해 나가겠다"고 밝혔다. 임효인 기자